Tantalio objetivos objetivo planar 99.99%

Los detalles.

Nombre de producto:blanco de sputtering de tantalio

Ejecución estándar: B708-98

Especificaciones: diámetro circular blanco (25-400) mm (3-28) mm * espesor

Plaza especificaciones objetivo: espesor (1-12.7) mm * (10-600) mm * longitud mm ancho (200-2000)

Tolerancia: la tolerancia del diámetro de + / - 0.254

Marca: RO5200, RO5400, RO5252 (Ta-2.5W), RO5255 (Ta-10W)

Pureza: 99,9%

Recristalización: al menos el 95%

Tamaño de grano: mínimo 40 m

Rugosidad de la superficie: Ra máximo 0.8

Llanura: o 0,1 mm 0,10% máximo.

Objetivos de las placas de tantalio

Compostion químico

Gr

Principal

otros % máximo

TA

NB

Fe

Si

Ni

W

Mo

Ti

NB

O

C

H

N

Vas

recordar

——

0.005

0.005

0.002

0.01

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta2

recordar

——

0.03

0.02

0.005

0.04

0.03

0.005

0.1

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb3

recordar

<3.5

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

TaNb20

recordar

17.0~23.0

0.03

0.03

0.005

0.04

0.03

0.005

——

0.03

0.01

0.0015

0.01

Ta2.5W

recordar


0.005

0.005

0.002

3.0

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01

Ta10W

recordar


0.005

0.005

0.002

11

0.01

0.002

0.04

0.02

0.01

0.0015

0.01




Consulta
[[ImgSrc-PhoneChat]]